研磨

    機(jī)械式材料去除的*步被稱為研磨。適當(dāng)研磨可去除受損或變形的表面材料，并將新變形的數(shù)量控制在有限范圍內(nèi)。研磨的目的是：獲得平整的表面，將損傷降到zui低程度，并可在拋光過程中以zui短的時(shí)間輕松去除這些損傷。研磨可劃分為兩個獨(dú)立的過程。

    1.粗磨，PG

    2.精磨，F(xiàn)G

    *步研磨通常被稱為粗磨（PG）。

    粗磨可保證所有試樣均獲得類似的表面，不管其初始狀況及前期處理如何。另外，當(dāng)試樣座中有若干個試樣需要處理時(shí)，它們必須處于同一水準(zhǔn)或“平面”，以利于試樣的進(jìn)一步制備。

    *步研磨采用了MD-Piano或MD-Primo。MD-Piano是一款金剛石磨盤，專為150至2000HV硬度范圍內(nèi)材料的粗磨而設(shè)計(jì)開發(fā)。MD-Piano采用金剛石作為磨料，可提高去除率并縮短研磨時(shí)間。MD-Primo是一款碳化硅磨盤，專為40至150HV硬度范圍內(nèi)軟質(zhì)材料的粗磨而設(shè)計(jì)開發(fā)。MD-Piano可在短時(shí)間內(nèi)始終獲得較高的材料去除量。這些研磨盤對硬質(zhì)和軟質(zhì)材料或位相均具有等效切削作用。因此，使用這些研磨盤可制備出平整的試樣，不同位相間不會產(chǎn)生任何浮凸缺陷。樹脂與試樣交接面的邊角修圓缺陷也得到了徹底消除。

    精磨而成的試樣表面僅有少量變形，可在拋光過程中消除。鑒于研磨紙存在的各種缺陷，為了改善和提高精磨效果，司特爾公司研發(fā)了替代型精磨表面。

    MD-Largo和MD-Allegro是兩款復(fù)合精磨盤。制備過程中，金剛石懸浮液或噴霧劑定期噴涂，因而可獲得恒定的材料去除率。

    同MD-Piano和MD-Primo一樣，MD-Largo和MD-Allegro的涂敷面積取決于所制備材料的硬度。MD-Largo用于40至150HV硬度范圍的軟質(zhì)材料或軟基體復(fù)合材料。MD-Allegro則用于硬度大于150HV的材料。

    精磨通常分多個步驟在粒度連續(xù)減小的碳化硅研磨紙上完成。采用MD-Largo或MD-Allegro后，這些步驟可合并為一步完成。典型使用的金剛石晶粒度為15至6微米。隨后以6微米或3微米的晶粒度精磨，即可獲得表面。

    精磨盤上涂敷了金剛石磨料，硬質(zhì)相和軟質(zhì)相材料均可獲得始終如一的材料去除率。軟質(zhì)相材料不會產(chǎn)生污斑，脆質(zhì)相材料不會產(chǎn)生碎屑，試樣可保持的平面度。后續(xù)拋光步驟可在zui短時(shí)間內(nèi)完成。

    拋光

    與研磨一樣，拋光必須消除先前步驟中產(chǎn)生的損傷。分步拋光、連續(xù)減小磨料粒度可實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)。拋光可分為兩個不同的過程。

    1.金剛石拋光，DP

    2.氧化物拋光，OP

    用金剛石作為拋光磨料，可以zui快速度去除材料并獲得zui佳平面度?，F(xiàn)有的其他材料均不可能獲得類似結(jié)果。金剛石的高硬度幫助您輕松切穿所有材料和位相。

    某些材料，尤其是軟質(zhì)和韌性材料，需要通過終拋光來獲得zui佳制備質(zhì)量。此時(shí)可采用氧化物拋光法。膠態(tài)氧化硅的晶粒度約為0.04毫米，pH值約為9.8，可為您呈現(xiàn)優(yōu)異的制備結(jié)果。化學(xué)活性輔以精細(xì)、溫和研磨，可制成絕無劃痕和變形的試樣。OP-U是一種多用途拋光懸浮液，在各類材料上均可獲得的拋光結(jié)果。OP-S可配合各種試劑使用，試劑會增強(qiáng)化學(xué)反應(yīng)，使OP-S勝任高韌性材料的制備。OP-A是一種酸性氧化鋁懸浮液，適用于低合金鋼、高合金鋼、鎳基合金及陶瓷材料的終拋光。

    易耗品

    拋光過程在拋光布上完成（見“拋光表面圖”中的完整介紹）。金剛石拋光時(shí)必須使用潤滑劑。拋光布、金剛石晶粒度及潤滑劑的選擇取決于需要拋光的材料類型。zui初的拋光步驟通常在低彈力拋光布上完成，軟質(zhì)材料需使用低粘度潤滑劑。終拋光時(shí)，需采用彈力較高的拋光布和粘度較高的潤滑劑。

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